而传感器的选择应用也是设备商提升竞争力的一大利器，随着生产需求的升级，传感器的方案也在不断升级。目前，明治已经陆续向大家分享了光伏排版机、花篮传输设备这些关于光伏设备的方案，揭秘了一个又一个光伏产业生产车间的传感器升级技术，本期小明就来继续给大家分享光伏设备中——氧化工艺的传感器应用解决方案。
氧化工艺是将硅片放置于氧气或水汽等氧化剂的氛围中进行高温热处理，在硅片表面发生化学反应形成氧化膜的过程。
1、前端运料避障
激光避障雷达 AS-33C系列
场景需求：
此工位位于硅片氧化工艺前端运料工序，激光雷达安装在将硅片花篮运送到后氧化机上料处的AGV小车上，前后各安装一个，起到避障作用，要求检测2米以内的障碍物，要求响应速度在80ms以内
项目难点：
1. 车间环境较为复杂，使得设备需要适应人机混行、多车混行的工作场景
2. 需具备设备自检及异常报警功能
解决方案：
1. 明治AS-33C系列为避障型激光雷达，采用TOF测量原理，避障性能稳定；3个避障区域设定，满足车辆运行，减速，停止三个状态，检测精度±2cm
2. 可对270°范围进行精准测量，在AGV小车前后各安装一个，使得设备避障无盲区
3. 具备自检功能，可检测激光雷达本身性能是否异常，避免出现意外故障的情况下设备仍进行运作从而造成不良后果
2、防护门感应
接近传感器 TQN18系列
场景需求：
需要在防护门上安装传感器来检测门是否关紧，检测距离要求7.5mm，检测重复精度0.1mm以内
解决方案：
1.为埋入型电感式方型接近，腰型安装孔，安装简单
2.检测距离最高为8mm，使用M18螺纹安装，节省空间
3、区域安全防护
安全光幕 BKL系列
场景需求：
防止机械手抓取硅片过程中人员误入设备工作区域导致伤害，要求响应时间小于20ms，检测稳定
解决方案：
1.采用明治经济型光幕BKL系列，有多种光轴间距和光轴数可供选择，包括10mm，20mm，40mm，这里需要保护人体，我们推荐选择40mm光轴间距
2.响应时间快速，小于10ms，一旦人体进入立刻发送信号驱动机器暂停，起到保护人体的作用
3.抗光干扰能力较强，最大能承受10000lux干扰，不受现场其他杂光干扰
4、机械手硅片抓取感应
背景抑制光电传感器 ESB-S10系列
场景需求：
此工位位于硅片氧化工艺中中段，需要安装传感器检测机械手是否抓取到硅片，以便进入下一工序，要求检测稳定，检测距离50mm
解决方案：
1. 在机械手上安装3个背景抑制型光电传感器ESB-S10系列，不受背景颜色影响，可稳定检测任何颜色物料
2. 检测距离为5-100mm，可满足需求
5、硅片堆叠高度控制
背景抑制型光电 ESB-B30系列
场景需求：
此工位位于硅片氧化工艺中，接收机械手运送的物料，对硅片堆叠高度有要求，需要在物料堆叠到指定高度后停止堆叠；检测距离250mm，有LED照明灯，环境光照较强，会对传感器造成干扰，要求响应时间小于1ms，另外客户对于检测精度要求高，需要重复精度小于0.5mm，于此同时，此设备还会生产多种类型的硅晶片，要求一款传感器可以兼容所有产品
项目难点：
对传感器抗光干扰能力有较高的要求，需要能同时抵抗住硅片的高反光和周围强光的干扰
解决方案：
1. 使用两个背景抑制型光电传感器ESB-B30N系列平行安装于硅片堆叠限位高度上下，不受背景颜色影响，可以保证多种类型硅晶片的检测兼容
2. 传感器检测距离可以达到250mm，在此场景下可满足客户需求，检测距离可调，可通过顶部旋钮调节，安装调试方便
3. 响应时间小于1ms ，可在稳定检测的同时保证检测效率，光斑小检测精度高
4. 抗光干扰能力较强，阳光照射可达到10000lux，白炽灯照射可达到3000lux，抗杂光干扰能力强，不受机械手下方的地板面、设备的金属面、门窗的玻璃面等环境及硅片反光干扰
5. 传感器可零距离并排安装，近距离并排安装不会发生相互干扰的状况
